与化学吸附自---过程不同，顺次反应自---原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面化学反应来驱动的。这样得到的沉积薄膜是由于前驱体与基体材料间的化学反应形成的。图a和b分别给出了这两种自---反应过程的示意图。由图可知，化学吸附自---过程的是由吸附前驱体1（ml2）与前驱体2（an2）直接反应生成ma原子层（薄膜构成），主要反应可以以方程式⑴表示。对于顺次反应自---过程首先是活化剂（an）活化基体材料表面；然后注入的前驱体1（ml2）在活化的基体材料表面反应形成吸附中间体（aml），这可以用反应方程式⑵表示。反应⑵随着活化剂an的反应消耗而自动终止，具有自---性。当沉积反应前驱体2（an2）注入反应器后，就会与上述的吸附中间体反应并生成沉积原子层。
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