原子层沉积（ald）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（pecvd）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在pecvd过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，---物，氮化物，金属等）。
对于在太空飞行的航天器来讲，真空是一个天然的、现实的外部环境，为真空绝缘应用提供了的自然条件。通过派瑞林真空气相镀膜保护技术，对实际的产品进行了绝缘设计及工艺验证。结果表明，采用真空气相沉积工艺在电极表面涂敷一定厚度的parylene涂层，可以---地满足产品在真空环境下的绝缘防护性能要求。
真空绝缘是基于空气击穿放电的机理，不同于固体或液体绝缘，因其本身的”真空”，缺少足够的可以移动的离子，也不会受到材料老化影响，不会受到机械、热、化学、湿度、辐射等因素的影响，磁铁 派瑞林，这是在应用时的天然形成的许多优点，正是基于这些优点，分析认为更符合在空间环境中应用的高电压电子产品。
派瑞林(parylene)中文名为聚对二，是一种高分子热可塑性聚合体，韶关派瑞林，由单体对二在真空状态下均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀涂覆形成膜厚，派瑞林涂覆，是一种保护性高分子材料。派瑞林(parylene)它可在真空下气相沉积，派瑞林(parylene)活性分子的---穿透力能在元件内部、底部，周围形成无，派瑞林涂层，厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供一个完整的防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的---，这种室温沉积制备的0.1～100μm薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代有效的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。
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