随着市场多元化的不断需求，对于很多企业来说需要根据其产品的工序购置不同的机器设备，拿真空镀膜行业来说，如果一台机器就能完成从镀膜前处理到镀膜后处理，中间不需要人工---不需要转换工序，那么无疑是企业的香饽饽，在单设备上实现一体化多功能成为了镀膜设备行业企业的共同需求。
真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品，基本上所有需要进行表面处理镀膜的都需要用到。在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀，在控制技术上，更多的应用---的计算机技术和微电子技术，使得真空镀膜设备更具性和智能自动化。
parylene真空镀膜是利用的真空化学气相沉积cvd(chemicalvapordeition)的方式，纳米防腐涂层，将parylene原料为150℃中气化，再经650℃中进行裂解，而成为活性单体，在室温真空舱体里由活性单体小分子在基材表面结晶成一层包覆性的聚合物薄膜层，可以于各种形状物体表面均匀形成薄膜，薄膜厚度可由1μm~50μm，膜厚均匀、质轻无、透明无应力、高绝缘性及披覆性、耐溶剂、抗酸碱、防锈，是当代led灯具产业ip规范、防尘、防水、防潮较佳伙伴。
parylene真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，增城纳米涂层，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。
parylene ht，该材料具有---的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
cvd（chemical vapor deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °c高温热解，得到对二环二体(dimer)，随后，经提纯的二聚体在 120°c 的升华区内升华，模具纳米涂层，在惰性气体的推动下，二聚体进入温度为 660°c 的裂解区，高温纳米涂层，高温下二聚体的分子键断裂，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
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