









1、纳米涂层可以涂刷在各种金属或是其他长时间需要耐磨的基体上,其优异的性能可防止金属间磨损、擦伤及烧结,真空镀膜,有效保护易磨损部位和提高设备运转周期。
2、纳米涂层硬度高,可达8h,摩擦系数低可低至0.06一0.08,而且涂层致密光滑,真空镀膜手机,附着力好,保护基材不被接触粉料、物料颗粒物磨损损耗,长期保护基体。另外,还可以耐疲劳磨损、耐冲蚀磨损、耐磨粒磨损、耐粘着磨损。
3、纳米涂层厚度很薄,不影响零件的尺寸和机械强度,且能根据使用条件的要求膜厚的厚度,---材料的原性能和耐磨。

原子层沉积(ald)是一种沉积原子级薄膜的技术,它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积(pecvd)技术相比,真空镀膜涂料,沉积速率相对较慢,但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外,在原子层沉积过程中,样品表面上没有物理和电学损伤,而在pecvd过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外,通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜(氧化物,---物,氮化物,金属等)。

普通真空镀膜时,在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层,塑料真空镀膜,好似截然分开。而离子镀时,离子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散---可达四至五微米,对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固,膜层均匀,致密。

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