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cvd(chemical vapor deition)法:将对二和水蒸气按一定比例混合,经 950~1000 °c高温热解,得到对二环二体(dimer),随后,经提纯的二聚体在 120°c 的升华区内升华,在惰性气体的推动下,二聚体进入温度为 660°c 的裂解区,高温下二聚体的分子键断裂,生成活性的对二活性单体(monomer),后在惰性气体气的推动下,活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里,在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。

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