原子层沉积（ald）是一种沉积原子级薄膜的技术，音响板派瑞林镀膜oem，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（pecvd）技术相比，沉积速率相对较慢，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在pecvd过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，---物，氮化物，金属等）。
parylene真空镀膜是利用的真空化学气相沉积cvd(chemicalvapordeition)的方式，将parylene原料为150℃中气化，再经650℃中进行裂解，而成为活性单体，在室温真空舱体里由活性单体小分子在基材表面结晶成一层包覆性的聚合物薄膜层，可以于各种形状物体表面均匀形成薄膜，薄膜厚度可由1μm~50μm，膜厚均匀、质轻无、透明无应力、高绝缘性及披覆性、耐溶剂、抗酸碱、防锈，是当代led灯具产业ip规范、防尘、防水、防潮较佳伙伴。
parylene真空镀膜有别于一般喷涂、灌胶，派瑞林镀膜哪个牌子好，真空镀膜利用气相沉积镀膜方式不受视线阻碍，需镀膜的产品，东莞派瑞林镀膜，其所有的表面皆会被活性单体紧密覆盖镀膜，而达到精细均匀、高的镀膜表层，而且易于维修，产品回收使用性高，减少灌胶人力成本。
parylene ht，该材料具有---的介电常数(即透波性能好)、好的稳定性和防水、防霉、防盐雾性能.短期耐温可450摄氏度，长期耐温
cvd（chemical vapor deition）法：将对二和水蒸气按一定比例混合，经 950~1000 °c高温热解，得到对二环二体(dimer)，派瑞林真空镀膜，随后，经提纯的二聚体在 120°c 的升华区内升华，在惰性气体的推动下，二聚体进入温度为 660°c 的裂解区，高温下二聚体的分子键断裂，生成活性的对二活性单体(monomer)，后在惰性气体气的推动下，活性单体在常温或较低温度下的真空沉积室里，在相应的基体材料的表面聚合沉积为parylene 薄膜。
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