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       原子层沉积是在一个加热反应器中的衬底上连续引入至少两种气相前驱体物种，化学吸附的过程直至表面饱和时就自动终止，适当的过程温度阻碍了分子在表面的物理吸附。

       目前可以沉积的材料包括：氧化物，氮化物，---物，金属，碳化物，复合结构，---物，纳米薄层等。 中空纳米管，隧道势垒层，韶关派瑞林镀膜，光电电池性能的提高，纳米孔道尺寸的控制，高高宽比纳米图形，微机电系统（mems）的反静态阻力涂层和疏水涂层的种子层，纳米晶体，znse涂层，纳米结构，中空纳米碗，存储硅点涂层，纳米颗粒的涂层，纳米孔内部的涂层，纳米线的涂层。

       原子层沉积（ald）是一种沉积原子级薄膜的技术，它是以一种连续脉冲的方式在样品表面和反应前驱体材料之间发生化学反应。与传统的等离子体增强化学气相沉积（pecvd）技术相比，沉积速率相对较慢，派瑞林纳米真空镀膜，但是它可在高深宽比的沟槽和通孔结构上沉积均匀薄膜。另外，在原子层沉积过程中，样品表面上没有物理和电学损伤，而在pecvd过程中由于离子轰击这种损伤却不可避免。此外，通过使用不同的反应材料可沉积各种薄膜（氧化物，---物，氮化物，磁芯派瑞林防潮镀膜厂，金属等）。



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