目前使用的parylene主要有parylene n，parylene c和parylene d三种，其共同点是高度惰性与高纯度，而每一种型号又有各自不同特点：parylene n 具有---的击穿强度，同时具有与频率无关的低介电常数；parylene c提供了的电气特性和物理特性的组合，包括潮热环境和腐蚀性气体环境下的低渗透率；parylene d 通过高温下优良的物理和电性能---了热稳定性。parylene ht是具备上述三种材料优点的一种组合材料。下面主要以 parylene n和 parylene c为例，介绍 parylene的主要特性。
派瑞林（parylene）真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，派瑞林涂层防水，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上
光学镀膜技术常用的方法是真空溅射镀膜玻璃基片，派瑞林，一般用来控制基片对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损耗，提高成像，涂覆一层或多层透明介质膜，称为减反射膜或减反射膜。
首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层c在微通道上，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，在其上制作金电极，派瑞林绝缘涂层，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（parylene）涂层微通道。通过控制（parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，派瑞林价格，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得---的派瑞林涂层微通道，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。
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关键词： Parylene派瑞 - 真空镀膜 - 表面处理 - 电子产品防潮防水 - 真空涂装
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